蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級X射線成像能力的優(yōu)良設(shè)備。這款設(shè)備結(jié)合了吸收襯度和相位襯度的功能，并通過使用由同步輻射光學器件改造而來的附件，使其在光子能量為5.4KeV時的納米成像能力提高了10倍。

對于中低原子序數(shù)的樣品，Xradia 810 Ultra的低能量特性能夠?qū)崿F(xiàn)更優(yōu)質(zhì)的襯度和圖像質(zhì)量。其無損分析步驟的加入，使這款設(shè)備在研究領(lǐng)域取得了重大突破。設(shè)備能夠在5.4 keV下利用更高的襯度對許多難以成像的材料進行高分辨率的X射線成像。此外，它還可以利用吸收襯度和相襯技術(shù)來優(yōu)化各種材料的成像，包括聚合物、氧化物、復合材料、燃料電池、地質(zhì)樣品以及生物材料等。

蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級X射線成像技術(shù)的引入，不僅提高了成像速度，還擴展了X射線成像在科學和工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。無論是科學研究還是工業(yè)應(yīng)用，這款設(shè)備都能提供高精度、高分辨率的X射線成像，為研究者提供豐富的材料信息和微觀結(jié)構(gòu)細節(jié)。

總的來說，蔡司Xradia Ultra納米級X射線成像技術(shù)是一種優(yōu)良的無損分析技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用前景。無論是在材料科學、地質(zhì)學、生物學還是其他領(lǐng)域，它都能為研究者提供深入洞察材料特性和行為的能力，推動科學的進步。